ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ КОМПОЗИЦИОННЫХ ХРОМОВЫХ ПОКРЫТИЙ ИЗ СУЛЬФАТНО-ОКСАЛАТНЫХ РАСТВОРОВ-СУСПЕНЗИЙ Cr(III |
25.03.2010 г. | |
ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЕ КОМПОЗИЦИОННЫХ ХРОМОВЫХ ПОКРЫТИЙ ИЗ СУЛЬФАТНО-ОКСАЛАТНЫХ РАСТВОРОВ-СУСПЕНЗИЙ Cr(III) С НАНОЧАСТИЦАМИ Al2O3, SiC, Nb2N и Ta2NН. А. Поляков1, Ю. М. Полукаров1, В. Н. Кудрявцев2 1Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина РАН 119991, г. Москва, Ленинский просп., 31.2Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева 125047, Москва, А-47, Миусская пл., 9, РоссияПоступила в редакцию 01.11.2008 г.
Исследовалось влияние концентрации и типа частиц (Аl2O3-диэлектрик, SiC-широкозонный полупроводник, Nb2N и Ta2N-проводники) на адгезию частиц к поверхности покрытия и состав композиционных электрохимических покрытий (КЭП), осаждаемых из сульфатно-оксалатных растворов-суспензий Cr(III) различных концентраций. Введение в раствор частиц, независимо от их типа, не влияет на характер формирования рентгено-аморфной матрицы хрома и содержание в покрытии водорода. Механизм включения частиц Al2O3, SiC и Nb2N + Ta2N в слои хрома различен. В первом случае (Al2O3, SiC) включение частиц обусловлено кинетическими факторами (в отсутствие тока адгезия частиц отсутствует), во втором случае частицы имеют прочную адгезию в отсутствие тока. Соответственно, распределение частиц SiC и Al2O3 неоднородно по толщине покрытия в отличие от Nb2N и Ta2N, для которых концентрация частиц вблизи подложки, мало отличается от их концентрации в объеме и поверхностных слоях. Увеличение температуры раствора способствует соосаждению частиц с хромом. Список литературы
|