ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ НАНОПОРИСТОГО ОКСИДА ПРИ АНОДИРОВАНИИ АЛЮМИНИЯ
02.03.2009 г.

ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ НАНОПОРИСТОГО ОКСИДА ПРИ АНОДИРОВАНИИ АЛЮМИНИЯ

 

А. И. Щербаков, И. Б. Скворцова, В. И. Золотаревский, Г. П . Чернова, В. Е. Мащенко

 

Институт физической химии и электрохимии им. А.Н. Фрумкина РАН, Москва 119991, Москва, Ленинский просп., 31

Поступила в редакцию 26.05.2008 г.

Изучено влияние электрохимического анодного оксидирования на формирование пористых анодных оксидных пленок (ПАОП) на высокочистом алюминии (99.99%) в растворе серной кислоты. Выбраны режимы анодирования для получения ПАОП с упорядоченной наноструктурой. Показано, что оксидная пленка, исследованная с помощью атомно-силового микроскопа, представляет собой сотовую структуру. Определены ее параметры: диаметр поры (30–35нм) и описанной окружности шестигранной ячейки (90 нм). Предложен возможный механизм образования регулярной нанопористой структуры анодного оксида алюминия.

Список литературы

  1. Голубев А.И. Анодное окисление алюминиевых сплавов. М.: Изд-во АН СССР, 1961. 199 с.
  2. Томашов Н.Д., Тюкина М.Н., Заливалов Ф.П. Толстослойное анодирование алюминия и его сплавов. М.: Машиностроение, 1968. 156 с.
  3. Томашов Н.Д., Заливалов Ф.П. Сб. Коррозия металлов и сплавов М.: Металлургиздат, 1963. С. 194.
  4. Анодные оксидные покрытия на металлах и анодная защита. Сб. 2-ое изд. / Под ред. Францевича И.Н. Киев: Наук. Думка, 1985. 280 с.
  5. Keller F., Hunter H., Robinson D. // J Electrochem. Soc. 1953 V. 100. № 9. P. 411.
  6. Masuda H., Fukuda. K. // Science. 1995. V. 268. P. 1466.
  7. Masuda H., Saton M. // Jph. J. Appl. Phys. 1996. V. 35. P. L126. Part 2. 1996. № 1B.
  8. Mcginnis S.P., Cleary J.N., Das B. // Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 1997. V. 452. P. 299.
  9. Mei Y.F., Wu X.L., Shao X.F., Huang G.S., Siu G.G. // Physics Lett. A. 2003. V. 309. P. 109.
  10. Маsuda Н., Yamada Н., Saton M. et al. // Appl. Phys. Lett. 1997. V. 71. № 19. P. 2770.
  11. Asoh H., Nishio K., Nakao M. et al. // J. Vac. Sci. Technol. B. 2001. V. 19(2). P. 569.
  12. Li J., Papadopoulos G., Xu J.M., Moskovits M. // Appl. Phys. Lett. 1999. V. 75. № 3. P. 367.
  13. Yin A.J., Li J., Jian W. et al. // Appl. Phys. Lett . 2001. V. 79. № 7. P. 1039.
  14. Yang Y., Chen H., Mei Y. et al. // Solid State Communications. 2002. V. 123. P. 279.
  15. Jang W.Y., Kulkarni N.N., Shih C.K., Yao Z. // Appl. Phys. Lett. 2004. V. 84. № 7. P. 1177.
  16. Гленсдорф П., Пригожин И. Термодинамическая теория структуры, устойчивости и флуктуаций. М.: Мир, 1973.