Нанолитография

Материал из m-protect.ru

Версия от 19:16, 5 мая 2009; Denis (Обсуждение | вклад)
(разн.) ← Предыдущая | Текущая версия (разн.) | Следующая → (разн.)
Перейти к: навигация, поиск

Нанолитография (Nanolithography) - способ массового изготовления интегральных схем с использованием в литографическом оборудовании источника экстремального ультрафиолетового излучения с длиной волны 13,5 нм и проекционной оптической системы на основе отражающих многослойных MoSi зеркал. Таким способом предполагается достижение размеров элементов интегральных схем 30 нанометров и меньше.

Источник — «http://m-protect.ru/wiki/index.php/%D0%9D%D0%B0%D0%BD%D0%BE%D0%BB%D0%B8%D1%82%D0%BE%D0%B3%D1%80%D0%B0%D1%84%D0%B8%D1%8F»
Личные инструменты