Нанопечатная литография
Материал из m-protect.ru
(Различия между версиями)
Текущая версия (16:07, 24 февраля 2009) (просмотреть исходный код) |
|||
| Строка 2: | Строка 2: | ||
[[Категория:Нанотехнология]] | [[Категория:Нанотехнология]] | ||
| + | [[Категория:Нанолитография]] | ||
Текущая версия
В методе нанопечатной литографии изображение образуется в основном за счёт физической деформации резиста прессформой (штампом), а не за счёт модификации химической структуры резиста облучением, как в обычной литографии. Это принципиальное различие освобождает НЛП от многих проблем, связанных со стандартными методами литографии (диффузионный предел, рассеяние и химические процессы). В результате с помощью НЛП можно недорого и с высоким выходом получать структуры размером менее 10 нм на больших площадях, что недоступно для всех существующих методов литографии.
