Рентгеновская рефлектометрия

Материал из m-protect.ru

Перейти к: навигация, поиск

Рентгеновская рефлектометрия (XRR – X-ray reflectivity) используется в химии, физике и материаловедении для описания и изображения поверхностей, тонких пленок и многослойных структур, поверхностей раздела сред. За последние годы рентгеновская рефлектометрия стала бесценным инструментом для изучения структуры и внутреннего строения материалов, производимых в виде тонких пленок субмикронного и атомного масштаба.

В исследованиях по тонкопленочным материалам одной из прикладных задач рефлектометрии этого типа является создание сложных покрытий, обладающих специфическими свойствами, которые необходимы для ряда технических приложений.

Достоинства рентгеновской рефлектометрии заключаются в том, что она позволяет определять:

  • Шероховатость поверхностей и границ раздела сред (типичный размер неоднородностей – менее 5 нм),
  • Толщину слоя материала (обычно для слоев тоньше 200 нм),
  • Распределение плотности электронов,
  • Внутреннее строение сложных структур.

Так как измерения происходят при малых углах падения излучения на исследуемое вещество, нет необходимости его кристаллизовать перед исследованием, что также является преимуществом над классическими дифракционными методами.

Тем не менее, пользоваться этим методом необходимо с определенной осторожностью. Так как информация о фазе излучения теряется, никогда нельзя быть до конца уверенным в однозначности результатов, получаемых при исследовании плотности распределения электронов в веществе. В случаях, когда фаза излучения несет важную для исследователя информацию и ее необходимо извлечь, должны применяться другие, более сложные рентгеновские методы.

См. также

Личные инструменты