Электронная литография
Материал из m-protect.ru
(Новая: '''Электронная литография''' или электронно-лучевая литография — метод литографии с использованием эл...) |
Текущая версия (16:06, 24 февраля 2009) (просмотреть исходный код) |
||
Строка 8: | Строка 8: | ||
[[Категория:Нанотехнология]] | [[Категория:Нанотехнология]] | ||
+ | [[Категория:Нанолитография]] |
Текущая версия
Электронная литография или электронно-лучевая литография — метод литографии с использованием электронного пучка. Электронный пучок сканирует поверхность электронного резиста, повторяя шаблон, заложенный в управляющий компьютер, и позволяя достигать разрешения 1 нм благодаря более короткой длине волны электронов по сравнению со светом.[1] Электронная литография используется для создания масок для фотолитографии, производстве штучных компонентов, где требуется нанометровое разрешение, в промышленности и научной деятельности.
Системы для электронной литографии
Системы электронной литографии для коммерческого применения очень дорогостоящие (> $4 млн. ). Для научных исследований обычно используют электронный микроскоп, переделанный в систему электронной литографии, используя относительно дешевые аксессуары (< $100 тыс.). Такие переделанные системы создают ширину линии ~20 нм с 1990-х годов, в то время как специализированное оборудование позволят получать разрешение меньше 10 нм вплоть до 1 нм.
Системы электронно-лучевой литографии можно классифицировать по форме луча и согласно стратегии отклонения луча. Старые системы использовали гауссовские пучки и сканирование производилось растровым методом. Более новые системы используют как гауссовские пучки, так и сформированную форму луча, которые могут быть отклонены в различные положения в поле записи (это также называется векторным сканированием).