СВОЙСТВА МНОГОСЛОЙНЫХ ZnO:Ga/Ag/ZnO:Ga ПОКРЫТИЙ, НАНОСИМЫХ МАГНЕТРОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ
10.09.2010 г.

СВОЙСТВА МНОГОСЛОЙНЫХ ZnO:Ga/Ag/ZnO:Ga ПОКРЫТИЙ, НАНОСИМЫХ МАГНЕТРОННЫМ РАСПЫЛЕНИЕМ

А. А. Соловьев, Н. С. Сочугов, К. В. Оскомов, Н. А. Захаров

Институт сильноточной электроники СО РАН 634055, Томск, Академический просп., 2/3

Поступила в редакцию 16.03.2009 г.

Методами Ван-дер-Пау, спектрометрии и атомно-силовой микроскопии исследованы оптические и электрофизические свойства многослойных ZnO:Ga/Ag/ZnO:Ga покрытий, наносимых методом магнетронного распыления. Исследовано влияние толщины слоев покрытия на поверхностное сопротивление, прозрачность и отражение многослойной структуры в видимом и инфракрасном диапазонах длин волн. Исследована морфология поверхности и стойкость покрытий к воздействию влаги. Показано, что покрытия ZnO:Ga/Ag/ZnO:Ga обладают высокой прозрачностью в видимом диапазоне Т = 90%, большим коэффициентом отражения в ИК-области спектра R = 93% и малым поверхностным сопротивлением Rп = 4.88 Ом/□. При этом, как показали исследования на влагостойкость, покрытия со структурой ZnO:Ga(25 нм)/Ag(15 нм)/ZnO:Ga (75 нм) обладают наибольшим сопротивлением к деградации, вызванной воздействием влаги, и не претерпевают изменений после тестирования, что может использоваться в качестве эффективного способа защиты пленок серебра от деградации.

Список литературы

  1. 1. Stearns M.B., Chang C.-H., Stearns D.G. // J. Appl. Phys. 1992. V. 71. P. 187.
  2. 2. Gijs M., Bauer G. // Adv. Phys. 1997. V. 46. P. 285.
  3. 3. Ando E., Suzuki S., Aomine N. et al. // Vacuum. 2000. V. 59. P. 792.
  4. 4. Lee C.C., Lee T.Y., Jen Y.J. // Thin Solid Films. 2000. V. 359. P. 95.
  5. 5. Arbab M. // Thin Solid Films. 2001. V. 381. P. 15.
  6. 6. Sharma S.K., Spitz J. // Thin Solid Films. 1980. V. 65. P. 339.
  7. 7. Ando E., Miyazaki M. // Thin Solid Films. 2001. V. 392. P. 289.
  8. 8. Fukuda S., Kawamoto S., Gotoha Y. // Thin Solid Films. 2003. V. 442. P. 117.
  9. 9. Chiba K., Takahashi T., Kageyama T., Oda H. // Appl. Surf. Sci. 2005. V. 246. P. 48.
  10. 10. Soloviev A.A., Sochugov N.S., Oskomov K.V. // Изв. вузов. Физика. 2007. № 9. С. 453.
  11. 11. Soloviev A.A., Sochugov N.S., Oskomov K.V. // Изв. вузов. Физика. 2007. № 9. С. 394.
  12. 12. Соловьев А.А., Сочугов Н.С., Оскомов К.В., Работкин С.В. // Физика плазмы. 2009. Т. 35. № 4. C. 1.
  13. 13. Sun X., Hong R., Hou H. et al. // Thin Solid Films. 2007. V. 515. P. 6962.
  14. 14. Sahu D.R., Huang J.-L. // Thin Solid Films. 2006. V. 515. P. 876.
  15. 15. Mohamed S.H. // J. Phys. Chem. Solids. 2008. V. 69. P. 2378.
  16. 16. Haacke G. // J. Appl. Phys. 1976. V. 47. P. 4086.