КИНЕТИКА ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЯ, СТРУКТУРА И СВОЙСТВА НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ МЕДЬПОЛИМЕРНЫХ ПОКРЫТИЙ НА ОСН
02.03.2009 г.

КИНЕТИКА ЭЛЕКТРООСАЖДЕНИЯ, СТРУКТУРА И СВОЙСТВА НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ МЕДЬПОЛИМЕРНЫХ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ N-МЕТИЛПИРРОЛИДОНА

 

Л. М. Скибина1, В. В. Кузнецов1, А. И. Соколенко2, И. Н. Лоскутникова2, М. А. Якушева1

 

1Южный федеральный университет 344090, Ростов- на- Дону, ул. Зорге, 7. Химический факультет ЮФУ, кафедра электрохимии

2Донской государственный технический университет

 

Поступила в редакцию 26.04.2007 г.

Установлено, что при формировании медьполимерных покрытий в водно-диметилсульфоксидном электролите с низким содержанием неводного компонента (х2=0.03) механизм действия N-метилпирролидона определяется соотношением эффектов, связанных с комплексообразованием в поверхностном слое, усиливающим проницаемость адсорбционной пленки, и с блокированием катода молекулами добавки и органического растворителя, оказывающим ингибирующее действие. В диапазоне концентраций cOL мономера от 10–5 до 10–2 моль/л преобладает первый эффект, при cOL > 10–2 второй. Гальванические осадки наилучшего качества (внешний вид, адгезия) формируются при соотношении металл:добавка 1 : 10. По данным атомно-силовой микроскопии, размеры зерна в таком покрытии соизмеримы с размерами наночастиц. Трибологические испытания показали возможность использования подобных медьполимерных покрытий в режиме сухого трения в качестве долговременной пластической смазки.

Список литературы

  1. Скибина Л.М., Кузнецов В.В., Сухоленцев Э.А. / / Защита металлов. 2001. Т. 37. № 2. С. 182.
  2. Кузнецов В.В., Скибина Л.М., Соколенко А.И. и др. // Защита металлов. 2004. Т. 40. № 4. С. 348.
  3. Кузнецов В.В., Скибина Л.М., Кузнецова Е.Ф. и др. // Защита металлов. 2005. Т. 41. № 5. С. 463.
  4. Кузнецов В.В., Скибина Л.М., Кузнецова Е.Ф. и др. // Защита металлов. 2006. Т. 42. № 6. С. 632.
  5. Кузнецов В.В., Скибина Л.М., Лоскутникова И.Н. и др. // Защита металлов. 1998. Т. 34. № 5. С. 521.
  6. Галюс 3. Теоретические основы электрохимического анализа. М.: Мир. 1974. 552 с.
  7. Кузнецов В.В., Федорова О.В., Гулидова О.А. // Электрохимия. 1995. Т. 31. № 12. С. 1354.
  8. Кузнецов В.В., Скибина Л.М., Гешель C.B. // Защита металлов. 2003. Т. 39. № 2. С. 167.
  9. Tatwawadi S. V., Bard A.J. II Analyt. Chem. 1964. V. 36. № 9. P. 2.
  10. Фрумкин А.Н. В кн.: Основные вопросы современной теоретической электрохимии. М: Мир, 1965. С. 302.
  11. Лошкарев М.А. // Химическая технология. Харьков: изд-во Харьковск. ун-та. 1971. В. 1. С. 3.
  12. Феттер К. Электрохимическая кинетика. М.: Химия. 1967. 856 с.
  13. Кужаров А.С., Кужаров А.А. // Вестник ДГТУ. 2005. Т. 5. № 1(23). С. 137.