Нанолитография
Материал из m-protect.ru
(Различия между версиями)
Denis (Обсуждение | вклад)
(Новая: '''Нанолитография''' (Nanolithography) - способ массового изготовления интегральных схем с использованием в ли...)
Следующая правка →
Текущая версия
Нанолитография (Nanolithography) - способ массового изготовления интегральных схем с использованием в литографическом оборудовании источника экстремального ультрафиолетового излучения с длиной волны 13,5 нм и проекционной оптической системы на основе отражающих многослойных MoSi зеркал. Таким способом предполагается достижение размеров элементов интегральных схем 30 нанометров и меньше.
